상세 보기
고투과도 고전도성 반도체 기판, 이의 제조 방법 및 반도체 기판 전도성 향상 방법
HIGHLY TRANSPARENT AND HIGHLY CONDUCTIVE SEMICONDUCTOR SUBSTRATE, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND METHOD FOR IMPROVING CONDUCTIVITY OF THE SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
- 고중혁;
- 이주원;
- 이광섭
초록
고투과도 고전도성 반도체 기판, 이의 제조 방법 및 반도체 기판 전도성 향상 방법이 개시된다. 상기 반도체 기판은 투명기판; 상기 투명 기판 상에 형성되고 AZO(Aluminum Zinc Oxide)를 포함하는 반도체층; 및 상기 반도체층 상에 형성되고 Au(금)을 포함하는 전도층;을 포함할 수 있다.
- 제목
- 고투과도 고전도성 반도체 기판, 이의 제조 방법 및 반도체 기판 전도성 향상 방법
- 제목 (타언어)
- HIGHLY TRANSPARENT AND HIGHLY CONDUCTIVE SEMICONDUCTOR SUBSTRATE, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND METHOD FOR IMPROVING CONDUCTIVITY OF THE SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
- 저자
- 고중혁; 이주원; 이광섭
- 발행일
- 2026-01-23
- 출원번호
- 10-2023-0139176
- 등록번호
- 10-2919169
- 출원일
- 2023-10-18
- 등록일
- 2026-01-23