상세 보기
질화막에 대한 선택성이 우수한 식각액 조성물
Etchant composition with high selectivity for nitride film
- 우종준;
- 구교선;
- 이평수;
- 김현수
초록
본 발명은 질화막에 대한 선택성이 우수한 식각액 조성물에 관한 것으로, 좀더 상세하게 설명하자면, 무기산 용매와, 실란무기산염, 그리고 첨가제를 포함하되, 상기 실란무기산염으로 신규한 화합물을 사용함으로써, 질화막에 대한 식각 선택성이 우수하고, 나아가 친환경적이면서 경제적으로 반도체 소자를 제조할 수 있는 식각액 조성물에 관한 것이다.
- 제목
- 질화막에 대한 선택성이 우수한 식각액 조성물
- 제목 (타언어)
- Etchant composition with high selectivity for nitride film
- 저자
- 우종준; 구교선; 이평수; 김현수
- 발행일
- 2022-08-19
- 출원번호
- 10-2020-0047188
- 등록번호
- 10-2435735
- 출원일
- 2020-04-20
- 등록일
- 2022-08-19