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적층 금속(Ni/Au, Pt/Au) 구조 Silicon Carbide (SiC) 나노와이어의 오믹 접촉 특성 연구
Electrical Characteristics of Multiple-metal Ohmic contacts to SiC Nanowires
- 김태홍;
- 이상권;
- 조남규
초록
본 논문에서는 unintentionally 도핑된 silicon carbide (SiC) 나노와이어 오믹 접촉을 연구하였으며, 이를 위해 두 가지 적층구조의 오믹 접촉 금속(Pt/Au와 Ni/Au)을 이용하였다. 이들에 대한 오믹 접촉 특성은 기존의 박막에서 사용되었던 transmission line model (TLM) 방법을 일부 수정하여 분석하였다. 측정결과 Ni/Au 오믹 접촉 금속의 specific contact resistance (SCR, )은 5.9 10 8.8 10 cm 의 값을 나타내었으며, Pt/Au의 평균 SCR은 3.4 10 3.6 10 cm 로 Ni/Au 적층금속이 Pt/Au 적층금속에 비해 약 570배 월등하게 낮은 저항 값을 갖는다. 또한 평균 접촉저항 (contact resistance, )값도 Pt/Au의 경우 685.6 181 k 값에 비해 Ni/Au는 8.2 0.2 k으로 약 86배 낮은 값을 갖는 것을 확인 할 수 있었다.
키워드
Silicon carbide; Nanowire; Ohmic contacts; Field-effect Transistor; FET; Silicon carbide; 나노와이어; 오믹 접촉; 전계효과트랜지스터
- 제목
- 적층 금속(Ni/Au, Pt/Au) 구조 Silicon Carbide (SiC) 나노와이어의 오믹 접촉 특성 연구
- 제목 (타언어)
- Electrical Characteristics of Multiple-metal Ohmic contacts to SiC Nanowires
- 저자
- 김태홍; 이상권; 조남규
- 발행일
- 2008
- 저널명
- 새물리
- 권
- 57
- 호
- 4
- 페이지
- 291 ~ 295
- 언어
- KOR
- 출판사
- 한국물리학회
- 발행국가
- 대한민국
- 분량
- 5 페이지
- ISSN
- E 2289-0041
P 0374-4914