상세 보기
CW 레이저 박막 어닐링 공정 변수 최적화 방법, 이를 이용한 레이저 박막 어닐링 방법 및 이에 의해 제조된 전력 반도체 박막
METHOD FOR OPTIMIZING PARAMETERS OF CW LASER THIN FILM ANNEALING PROCESS, METHOD FOR LASER THIN FILM ANNEALING USING THE SAME AND POWER SEMICONDUCTOR THIN FILM FABRICATED THEREBY
- 고중혁;
- 배민성;
- 이광섭
초록
CW 레이저 박막 어닐링 공정 변수 최적화 방법, 이를 이용한 레이저 박막 어닐링 방법 및 이에 의해 제조된 전력 반도체 박막이 개시된다. 상기 CW 레이저 박막 어닐링 공정 변수 최적화 방법은 반도체 전구체를 포함하는 박막의 결정화가 일어날 수 있는 온도를 달성하기 위한 최소 CW 레이저 조사 시간을 산출하는 것; 및 상기 박막의 결정이 파괴되지 않는 정도의 에너지를 조사하기 위한 최대 CW 레이저 조사 시간을 산출하는 것;을 포함한다. 상기 레이저 박막 어닐링 방법은 기판 상에 반도체 전구체를 포함하는 박막을 코팅하는 제1 단계; 및 최소 CW 레이저 조사 시간 및 최대 CW 레이저 조사 시간 사이의 시간 동안 상기 박막에 CW 레이저를 조사하는 제2 단계;를 포함한다. 상기 전력 반도체 박막은 상기 레이저 박막 어닐링 방법에 의해 제조될 수 있다.
- 제목
- CW 레이저 박막 어닐링 공정 변수 최적화 방법, 이를 이용한 레이저 박막 어닐링 방법 및 이에 의해 제조된 전력 반도체 박막
- 제목 (타언어)
- METHOD FOR OPTIMIZING PARAMETERS OF CW LASER THIN FILM ANNEALING PROCESS, METHOD FOR LASER THIN FILM ANNEALING USING THE SAME AND POWER SEMICONDUCTOR THIN FILM FABRICATED THEREBY
- 저자
- 고중혁; 배민성; 이광섭
- 발행일
- 2023-11-28
- 출원번호
- 10-2022-0084227
- 등록번호
- 10-2608596
- 출원일
- 2022-07-08
- 등록일
- 2023-11-28
- 지식재산권 유형
- 특허
- 양수인
- 중앙대학교 산학협력단