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OLED공정에서 사용되는 섀도마스크의 습식 세정 후 세정표면 및 세정용액 분석에 관한 연구
Analysis of Post Cleaning Solution After Wet Cleaning of Shadow Mask Used in OLED Process
- 최은화;
- 표성규
초록
The post cleaning method for clean the shadow mask using in OLED (organic light emitting diode) emitter layer is always reforming. The cleaning solution and analysis method of shadow mask is still lack and not optimized. We use the simple and useful analytical method to determine the quantity and quality of organic and inorganic residue on surface of shadow mask. Finally analyze the cleaning solution using Raman spectroscopy efficiently.
키워드
shadow mask; OLED; organic and inorganic residue; cleaning solution; Raman spectroscopy
- 제목
- OLED공정에서 사용되는 섀도마스크의 습식 세정 후 세정표면 및 세정용액 분석에 관한 연구
- 제목 (타언어)
- Analysis of Post Cleaning Solution After Wet Cleaning of Shadow Mask Used in OLED Process
- 저자
- 최은화; 표성규
- 발행일
- 2016
- 저널명
- 마이크로전자 및 패키징학회지
- 권
- 23
- 호
- 4
- 페이지
- 7 ~ 10
- 언어
- KOR
- 출판사
- 한국마이크로전자및패키징학회
- 발행국가
- 대한민국
- 분량
- 4 페이지
- ISSN
- P 1226-9360