비대칭 진성영역 구조의 진행파형 광검출기

초록

본 발명은 비대칭 진성영역 구조의 진행파형 광검출기에 관한 것으로, 보다 자세하게는 전자와 정공의 물리적 특성에 의한 속도차로 인해 출력단에서 펄스폭이 넓어져 대역폭이 저하되는 현상을 개선하기 위한 것이다. 본 발명의 비대칭 진성영역 구조의 진행파형 광검출기는 활성영역, 상기 활성영역의 상부 및 하부에 형성된 클래딩, 상기 클래딩의 상부 및 하부에 형성된 전도 매질을 포함하는 비대칭 진성영역 구조의 진행파형 광검출기에 있어서, 상기 활성영역에서의 전자와 정공이 상기 전도 매질로 천이되어 발생하는 출력단에서의 임펄스 응답 속도의 차에 따라 비대칭의 두께를 갖는 상부 및 하부 클래딩을 포함하여 이루어짐에 기술적 특징이 있다. 따라서, 본 발명의 비대칭 진성영역 구조의 진행파형 광검출기는 진성영역이 활성영역과 상부 및 하부 클래딩 부분으로 구성되고, 상기 상부 및 하부 클래딩 영역의 두께를 전자와 정공의 속도를 고려해 적절히 설계함으로써, 출력단에서의 임펄스 응답의 펄스폭을 작게 하여 넓은 대역폭을 확보할 수 있고, 고속, 고전력 등의 이점을 유지하여 유무선 통신 서비스 등에 활용될 수 있으며, 고속 대용량의 정보처리를 위한 핵심적 광전 소자로서 응용될 수 있다.