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극저온 공정을 이용한 용액형 산화물 박막의 제조 방법, 산화물 박막 및 이를 포함하는 전자소자

METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID-TYPE METAL-OXIDE THIN FILM, THIN FILM, AND ELECTRIC DEVICE THEREOF

박성규

초록

본 발명의 일 실시예에 의한 극저온 공정을 이용한 용액형 산화물 박막의 제조 방법은 금속 나노클러스터 전구체를 형성하는 단계, 상기 금속 나노클러스터 전구체를 이용하여 산화물 용액을 형성하는 단계, 상기 금속 나노클러스터 전구체가 포함된 산화물 용액을 기판 상에 코팅하는 단계 및 불활성 가스 분위기 하에서 상기 코팅된 산화물 용액에 자외선을 조사하여 산화물 박막을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.

제목: 극저온 공정을 이용한 용액형 산화물 박막의 제조 방법, 산화물 박막 및 이를 포함하는 전자소자

제목 (타언어): METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID-TYPE METAL-OXIDE THIN FILM, THIN FILM, AND ELECTRIC DEVICE THEREOF

저자: 박성규

발행일: 2018-07-03

출원번호: 10-2016-0162574

등록번호: 10-1876368

출원일: 2016-12-01

등록일: 2018-07-03

지식재산권 유형: 특허

양수인: 중앙대학교 산학협력단