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적외선 영역대 펄스 CO2 레이저를 이용한 고품질 질화갈륨 박막 제조 방법 및 장치
High-quality gallium nitride thin film manufacturing method and apparatus using pulsed CO2 laser in the infrared range
- 유재영;
- 고중혁;
- 조창현;
- 배민성
초록
본 발명은 적외선 영역대 펄스 CO2 레이저를 이용한 고품질 질화갈륨 박막 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명에 의한 적외선 영역대 펄스 CO2 레이저를 이용한 고품질 질화갈륨 박막 제조 방법은, 진공챔버 내에서 회전되는 기판 상에 진공증착 방식으로 질화갈륨 박막을 성장시켜 주기 위한 것으로, 상기 진공챔버 내에 아르곤과 질소 가스를 주입시키고, 질화갈륨 입자를 타겟으로 하는 라디오 주파수 스퍼터(RF Sputter)를 가동시켜서 상기 기판 상에 질화갈륨 결정체를 성장시키는 질화갈륨 성장 단계; 및 상기 질화갈륨 성장에 필요한 에너지 중 일부를 보조할 수 있도록, 상기 기판 상에 적외선 영역대 펄스 CO2 레이저를 조사시키는 레이저 조사 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
- 제목
- 적외선 영역대 펄스 CO2 레이저를 이용한 고품질 질화갈륨 박막 제조 방법 및 장치
- 제목 (타언어)
- High-quality gallium nitride thin film manufacturing method and apparatus using pulsed CO2 laser in the infrared range
- 저자
- 유재영; 고중혁; 조창현; 배민성
- 발행일
- 2025-02-10
- 출원번호
- 10-2022-0181840
- 등록번호
- 10-2767515
- 출원일
- 2022-12-22
- 등록일
- 2025-02-10
- 지식재산권 유형
- 특허
- 양수인
- 중앙대학교 산학협력단