나노구조물이 형성된 형광 기판의 제조방법 및 이에 의해 제작된 형광 기판

초록

본 발명은 나노구조물이 형성된 형광 기판의 제조방법 및 이에 의해 제작된 형광 기판에 관한 것으로, 기판 상에 포토레지스트층을 형성하는 코팅단계; 상기 포토레지스트층에 양각영역의 상대적인 돌출을 가능하게 하는 제거영역이 형성될 수 있도록, 그 제거영역과 대응되는 홀 어레이가 형성된 마스크를 상기 포토레지스트층에 배치시킨 후 상기 마스크 측으로 빛을 조사시키는 노광단계; 상기 마스크를 포토레지스트층으로부터 제거하는 마스크 제거단계; 상기 제거영역을 포함한 상기 포토레지스트층의 전체 표면에 나노 사이즈의 금속 구조물층을 형성시키는 나노 구조물 형성단계; 및 상기 제거영역의 제거에 의해 상대적으로 돌출 형성되는 상기 양각영역 부분에만, 상기 나노 사이즈의 금속 구조물층이 형성될 수 있도록, 상기 포토레지스트층을 현상시킴으로써 상기 제거영역 및 상기 금속 구조물층의 그 제거영역에 놓여진 부분을 함께 제거시키는 양각형 나노 구조물 생성단계를 포함하여 이루어진다.